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纳米硅化物粉体

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微纳米硅化钽粉

微纳米二硅化钽粉通过可变电流激光离子束气相法制备,纯度高,粒径小,分布均匀,比表面积大,表面活性高,耐高温,抗氧化,硬度高,是一种工程材料。TaSi2=237.12,密度9.14g/cm3,熔点2200℃。

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技术参数

产品归类

型号

平均粒径(um)

纯度
(%)

比表面积

(m2/g)

体积密度(g/cm3)

晶型

颜色

纳米级

CW-TaSi2-001

50nm

99.5

36.23

5.16

立方

灰黑色

 微纳级 CW-TaSi2-002 <1.0  99.5 25.12  5.81 立方  灰黑色

超细级

CW-TaSi2-003

1-3um

99.5

16.13

5.94

立方

灰黑色

 颗粒级 CW-TaSi2-005 325目 99.5 7.28 6.98 立方 灰 色

加工定制

根据客户需求适当调整产品纯度及粒度

主要特点
微纳米二硅化钽粉通过可变电流激光离子束气相法制备,纯度高,粒径小,分布均匀,比表面积大,表面活性高,耐高温,抗氧化,硬度高,是一种工程材料。TaSi2=237.12,密度9.14g/cm3,熔点2200℃。
应用领域
二硅化钽粉主要用于发热元件、集成电路、高温抗氧化涂层、高温结构材料及航空、航天等领域。
技术支持
可以提供微纳米硅化钽粉在航空航天、复合材料、高温结构件中的应用技术支持,具体应用咨询请与销售部人员联系。
包装储存
本品为抽真空包装,应密封保存于干燥、阴凉的环境中,不宜长久暴露于空气中,防受潮发生团聚,影响分散性能和使用效果。

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