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纳米硅化物粉体

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微纳米硅化铪粉

微纳米二硅化铪粉、微米二硅化铪粉通过可变电流激光离子束气相法制备,纯度高,粒径小,分布均匀,比表面积大,表面活性高,耐高温,抗氧化,硬度高,是一种工程材料,在各个领域有着应用。高熔点(1680℃)、高硬度、高稳定性以及良好的导电性、导热性、抗氧化性。

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技术参数

产品归类

型号

平均粒径(um)

纯度
(%)

比表面积

(m2/g)

体积密度(g/cm3)

晶型

颜色

微纳级

CW-HfSi2-001

<1.0

99.5

12.47

5.12

立方

黑色

超细级

CW-HfSi2-002

1-3um

99.5

10.25

5.36

立方

黑色

 微米级 CW-HfSi2-005 325目 99.5 3.16 6.79 立方 灰黑色

加工定制

根据客户需求适当调整产品纯度及粒度

主要特点
微纳米二硅化铪粉、微米二硅化铪粉通过可变电流激光离子束气相法制备,纯度高,粒径小,分布均匀,比表面积大,表面活性高,耐高温,抗氧化,硬度高,是一种工程材料,在各个领域有着应用。高熔点(1680℃)、高硬度、高稳定性以及良好的导电性、导热性、抗氧化性。
应用领域
二硅化铪主要用于制造溅射靶材,雷达航空航天、电子工业、仪表仪器、医疗器械等 
技术支持
可以提供微纳米硅化铪粉在耐磨涂层、航空航天、复合材料中的应用技术支持,具体应用咨询请与销售部人员联系。
包装储存
本品为抽真空包装,应密封保存于干燥、阴凉的环境中,不宜长久暴露于空气中,防受潮发生团聚,影响分散性能和使用效果。

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