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微纳米硅化钽粉
微纳米二硅化钽粉通过可变电流激光离子束气相法制备,纯度高,粒径小,分布均匀,比表面积大,表面活性高,耐高温,抗氧化,硬度高,是一种工程材料。TaSi2=237.12,密度9.14g/cm3,熔点2200℃。
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微纳米硅化铪粉
微纳米二硅化铪粉、微米二硅化铪粉通过可变电流激光离子束气相法制备,纯度高,粒径小,分布均匀,比表面积大,表面活性高,耐高温,抗氧化,硬度高,是一种工程材料,在各个领域有着应用。高熔点(1680℃)、高硬度、高稳定性以及良好的导电性、导热性、抗氧化性。
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微纳米硅化钼粉
微纳米二硅化钼粉通过可变电流激光离子束气相法制备,纯度高,粒径小,分布均匀,是一种工程材料,MoSi2=152.12,密度6.26 g/ cm3,熔点2030℃,具有导电性,在高温下表面能形成二氧化硅钝化层以阻止进一步氧化,MoSi2是Mo-Si二元合金系中含硅量高的一种中间相,具有金属与陶瓷的双重特性
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微纳米硅化锆粉
微纳米二硅化锆粉通过可变电流激光离子束气相法制备,纯度高,粒径小,分布均匀,比表面积大,表面活性高,耐高温,抗氧化,硬度高,是一种工程材料,在各个领域有着应用。ZrSi2=147.4,密度4.88g/cm3,熔点1620℃。
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